岛津KRATOS高性能成像 X射线光电子能谱仪 AXIS SUPRA*
X射技光电子能酒悦作为客种材料的化学状态毋析慢器，可以难确地确走材料泰言元囊的化学状态。被广泛应用于各种低婚新材料、姚米材料和表面科学的研究中。
AXI5 SUFRA屋岛津Kra的新研发出的一款高湍X射线光电子能蘧愎，兼备高分腩茱谱和快进甲行霞像动能，具备高"量分忧,高灵都度,高空间劳精的特点。
-杰出的薪电中和技术轻粒分析不同类型样品
-高功丰文射版源保证低含量元素测定
–双届能量分析圈喁保高某集效率和瞌像空间分热车·多模式离子添实理从超薄到超厚的分粝
–丰畜的灵活性可以拓医多种酎忡和表面分断技术
主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:
1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。
2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）
3. 线扫描或面扫描以得到线或面上的元素或化学态分布。
4. 成像功能。
5. 可进行样品的原位处理 AES：1.可进行样品表面的微区选点分析（包括点分析，线分析和面分析） 2.可进行深度分析适合： 纳米薄膜材料，微电子材料，催化剂，摩擦化学，高分子材料的表面和界面研究
