特点
· 低压等离子系统，用于不同材料表面的处理
· 配置自动/手动模式，实现控制高机能
· 10.5L腔体可处理多种样品
· 适合于研究院、高校、研发中心使用
· ８” Wafer去胶清洗
技术规格：
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型号 |
ATTO |
ATTO PCCE |
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控制系统 |
手动控制 |
PCCE 控制系统 |
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工艺气路 |
双路气体 |
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工艺气体 |
O2 ， Ar ， N2 ， CO2 ， H2 ， Air 等 |
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单体导入 |
H2O 等单体（选配） |
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流量计 |
针阀流量计 |
MFC 流量计 |
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真空 腔体 |
材质 |
高硼硅玻璃腔体，盖子门带观察窗 ( 石英，铰链门选配 ) |
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内尺寸 (Dia. × D) |
211 × 300mm |
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容积 |
10.5L |
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电极 |
360 度外置环绕电极 |
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发生器 * |
40KHz 0~200 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W |
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真空压力计 |
指针式压力计（选购） |
皮拉尼数字式压力计 |
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计时器 |
旋钮式（选购） |
数字式 |
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托盘 |
高硼硅玻璃（石英选配） W200xD260xH5mm |
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外形尺寸（ WXDxH ） mm |
525x450xD450 |
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电源 |
AC220V 50Hz 10A |
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真空泵 |
排气速度 8m3/H |
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