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沛沅仪器是一家集等离子体技术设计、制造、产品开发、销售与服务于一体的技术型企业，公司致力于提供专业的等离子表面处理系统，向用户提供国内*的等离子表面处理设备和优质专业的服务。

公司技术团队67%以上具备硕士或硕士以上学位，公司由*从事等离子体应用技术研究开发、多次参与国家重大科学工程研究的专家和产业化专家联合创建，提供一系列等离子体表面处理系统、等离子体刻蚀系统、常压等离子清洗设备等，并与中科院上海应用物理研究所，复旦大学，中国科技大学，上海科技大学，上海交通大学等建立了密切的技术合作交流关系。

公司的愿景是成为等离子体应用领域的优质供应企业，用科研的沉淀和应用的创新，为中国的制造业崛起和化战略贡献一份力量。

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产品简介在线询价

PLUTO-WIN是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。

CCP干法刻蚀机产品详情

产品特点

-刻蚀形貌好、工艺性能

-高选择比、高刻蚀速率

-低拥有成本和消耗成本

技术参数

晶圆尺寸：6/8寸兼容

适用工艺：等离子体刻蚀

适用材料：SiO₂，Si₃N₄，etc.

应用领域

适用领域:化合物半导体、MEMS、功率器件、科研等领域

正文图片.png

SiO₂ 4um SiO₂ 2um SiN 2um

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