紫外臭氧清洗机uvo

紫外臭氧清洗机原理：

通过紫外灯发出适当强度的 185nm和254nm波长高能紫外线破坏有物分子(污染物)。185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气(O2)分解成臭氧(O3)，而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和 原子 氧 (O)，  254 nm紫外线同时激发表面的有机物分子，提高其敏感性，可以被臭氧分子团破坏。在连续进行的光敏氧化反应中，生成的活性 原子 氧 (O)与活化了的有机物(即碳氢化合物)分子发生氧化反应，生成挥发性气体(如CO2，CO, H2O,NO等)逸出 材料 表面，从而清除粘附在 材料 表面上的 碳和 有机污染物，达到清洗的目的。

应用 领域 ：

u 石英 /玻璃制品的表面清洗：液晶面板 , 等离子电视屏幕 , 彩色过滤片 , 光罩 , 棱镜 , 透镜 , 反射镜 , 平板电视等。

u 微电子产品的表面清洗：微型马达轴 , 磁头驱动架 , 光盘 , 光电器件 , 手机摄像头 , 微型喇叭 /受话器震膜 , 半导体硅片 , 掩膜版。

u 精密集成电路的表面清洗：液晶显示器 ITO , 精密电路板 , 软性电路板接头 , BGA基板的清洗 , COG的清洗 , COF(ILB)接合面的清洗 , 薄膜基板的清洗 , 金属基板的清洗 , BGA基板与粘结垫的清洗。

u 在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜 , 塑料薄膜 , 树脂成型空气袋 , IC包装 , 注射 针 接合 部分 的表面性 , 介入导管的表面改型等。

u 科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等 。

产品特点

u 基础型 系列 采用可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。 P 、 T系列采用 5 寸彩色触摸屏中英文互动操作界面， 设置显示计时时间及加热温度。

u 自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。

u 数字倒计时显示清洗时间， 1-999分钟之间可自行设置清洗时间 。

u 任何时间可以手动中断处理过程。

u 自动记录之前清洗参数设置。

u 样品台可控温（可选），控温范围 RT-2 0 0℃，控温精度0.1℃。

u 顶置下压式铰链开关盖方式，操作简单方便。

u 上置式样品台设计， 360度自由放置样品，操作方便。

u 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，并可锁定。

u UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。

u 高强度 UV灯源，波长185nm和254nm。

u 可累计计时 UV格栅灯 使用时长，更换提示。

u UV反射罩（长X宽）比UV格栅灯大25 m m。

u 双重安全保护， 带有 安全锁 ， 当清洗腔打开时，系统 自动 关掉 UV灯，并有灯光通断提示。

u 带进 &出气口双气路设计。

u 可接入氧气或者臭氧，增加臭氧产量。

u 5（型号）可选外置臭氧中和器，9（型号）、1 3（型号） 系列可选外置或者内置臭氧中和器，用于臭氧清除。

u 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。

技术参数