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红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺

参  考  价:面议
具体成交价以合同协议为准

产品型号:Gasboard-2061

品       牌:四方仪器

厂商性质:生产商

产品资料:查看pdf文档

所  在  地:武汉市

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更新时间:2025-05-27 10:36:39浏览次数:390次

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产地 国产 加工定制
检测原理 NDIR 检测气体 WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程 1~264ppm(0~200mTorr) 重复性 ±0.5%
线性 ±1%F.S. 检测限 1ppm
红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,可用于半导体沉积和清洗工艺的端点检测、腔室清理终端检测,能够减少清洁时间,节约成本,提高产量。

红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺


产品名称:红外气体传感器

产品型号:Gasboard-2061


红外气体传感器产品概述

红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,可用于半导体沉积和清洗工艺的端点检测、腔室清理终端检测,能够减少清洁时间,节约成本,提高产量。


红外气体传感器产品特性

(1)使用NDIR技术,多气体监测支持(WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)

(2)响应时间快,高灵敏度

(3)无耗材

(4)模拟/数字通信

(5)模块化设计,便于集成


红外气体传感器技术参数


检测原理NDIR
检测气体WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程1~264ppm(0~200mTorr)
重复性±0.5%
线性±1%F.S.
检测限1ppm



应用领域

半导体行业薄膜沉积工艺CVD设备的EPD气体检测




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