上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上高效, 提供高离子束流的离子源.
尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6“
放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上高效, 提供高离子束流的离子源.
尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6“
放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性：
1.水冷 - 加速冷却
2.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
3.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
5.高效的等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:
|
离子源型号 |
霍尔离子源 eH3000 |
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Cathode/Neutralizer |
HC |
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电压 |
50-250V |
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电流 |
20A |
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散射角度 |
>45 |
| 可充其他 | Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
|
气体流量 |
5-100sccm |
|
高度 |
6.0“ |
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直径 |
9.7“ |
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水冷 |
可选 |
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域：
1. 溅镀和蒸发镀膜 PC
2. 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
3. 表面改性, 激活 SM
4. 直接沉积 DD
