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VTC-16-D 小型三靶等离子溅射仪

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  • 所在地
  • 更新时间 2023-07-31
  • 厂商性质 其他
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深圳市科晶智达科技有限公司2001年成立于深圳,是一家聚焦服务于高校、研究院所、企业研发部门的国家技术企业,长期致力于打造安全、高效、智能的实验研发一站式服务平台,为科学研究与产业孵化赋能。 深圳科晶与美国MTI、合肥科晶、沈阳科晶同属MTI-科晶联盟,目前已经搭建辐射的服务网络,精心为科学家们的实验室提供交钥匙工程解决方案。 深圳科晶创立初期主要为半导体、精密光学器件提供洁净存储和安全转移所使用的包装制品,产品包括各种塑料胶盒、膜盒、晶圆盒、海绵盒、花篮等。 公司2008年开始进行材料相关研发设备和锂电池实验设备的开发,经过十多年的积累深圳科晶现已成为新能源和新材料基础研究、小试与中试、测试与评估的整体解决方案规划者和提供者,产品应用涵盖了石墨烯材料、*陶瓷、*纳米材料、锂离子电池、超级电容器、燃料电池、固态电池、钙钛矿太阳能电池、功能薄膜等方向。 主要产品系列:按应用与工艺更新产品系列 ? 材料基础研究实验装备(包括混料、涂覆、镀膜、压制、烧结、切割、研磨、抛光、粉碎、制粉、造粒、熔炼等); ? 电池研发实验制备装备(包括锂离子电池、固态电池、超级电容器、金属空气电池、钠离子电池、液流电池、太阳能电池等制备方案); ? 电池安全测试装备(符合GB31241 、GB31485、IEC62133、UN38.3等国内标准等); ? 锂离子电池中、小试生产制备全流程系统装备方案,交钥匙工程(包括扣式、柱状、软包、方形铝壳等各种全电池制备方案); ? 燃料电池研发实验制备装备(包括固体氧化物、质子交换膜燃料电池等制备方案); ? 钙钛矿太阳能电池研发实验制备; ? 功能薄膜研发实验设备(包括混料、涂布、辊压/复合、分切、复卷等); ? 高通量材料基因组实验设备(包括配液、配粉、混合分散、压片、烧结、测试表征等); 公司设立了开放的研发实验室和设备体验中心。对于锂电池行业,可实现公斤级别材料制备及电池研发,能接受上门小批量材料验证、定向工艺研究及小量成品电池制备等研发工作。 深圳科晶强大的研发团队支撑了丰富的产品链,针对现有产品具有*知识产权的发明和实用新型共40多项(包含PCT和国内发明),并参与行业多项标准制定且获得多个行业协会认可。 本着“精诚合作、创新共赢”的宗旨,深圳科晶先后与清华大学、南开大学、上海交通大学、深圳大学、中航发航材院、溧阳天目湖研究院等十多个高校机构和企业签署产学研合作。与此同时,深圳科晶设立了对外服务的公共试验平台,承接科研人员参观交流与现场测试体验,配备行业的售前技术人员协助研究者充分了解相关工艺和设备,缩短调研考察与决策时间。该实验室平台也可以承接相关工艺试验服务和培训咨询服务,协助细分领域的科研工作者快速掌握产业工艺,从而专注前沿研发。 材料科学是基础科学。纵观人类科技的发展历史,新型材料的发现和应用将带来巨大的产业机遇,而*的实验装备和仪器是为科研和应用保驾护航的重要保障。科晶团队将一如既往秉承“客户为本,技术为导,诚信为基,积极创新”的运营理念 ,竭力为科学研究和科技发展做出贡献。
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VTC-16-D是一款小型直流磁控等离子溅射镀膜仪,其靶头尺寸为2英寸,并且样品台的高度可以调节
VTC-16-D 小型三靶等离子溅射仪 产品详情

VTC-16-D是一款小型直流磁控等离子溅射镀膜仪,其靶头尺寸为2英寸,并且样品台的高度可以调节。此款镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜。

性能指标和基本配置
特点

● 特别为SEM样品镀导电性薄膜设计
● 体积小巧,操作简单,容易上手。
● 拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。

主要参数

● 输入电源:220V AC 50/60Hz
● 功率:200W
● 输出电压:500 VDC
● 溅射电流:0-50 mA可调
● 溅射时间:0-120S可调

溅射腔体

● 采用石英腔体,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H
● 密封:采用不锈钢平法兰的O形密封圈

溅射头&样品台

● 溅射头可安装靶材直径为2英寸,厚度0.1 - 2.5mm
● 溅射时间1-120S可调
● 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离可调。
● 可选购加热型样品台,其加热温度为500℃
● 安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。
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真空系统

● 安装有KF25真空接口
● 数字真空压力表(Pa)
● 此系统可通入气体运行
● <1.0E-2 Torr (采用机械泵)(仅供参考,详情请点击)
● <1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵)(仅供参考,详情请点击)
● 可在本公司选购各种真空泵
1

进气

● 设备上配1/4英寸进气口,方便连接气瓶
● 设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

靶材

● 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)
● 此设备标配为铜靶
● 可在本公司选购各种靶材

各种靶材的参数(仅供参考) 对于溅射各种金属靶材,需要摸索的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数,欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺(仅供参考,详情请点击)
靶材种类 真空度(Pa) 溅射电流(mA) 时间(s) 溅射次数
Au 31-33 28-30 100 1
Ag 31 28 100 1
薄膜测厚仪(可选)

可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
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产品尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm
1
净重 20 kg(不包括泵)
使用注意事项

● 有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜
● 在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
● 要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面
● 超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声,(2)异丙醇超声-去除油脂,(3)吹氮气干燥,(4)真空烘箱除去水分。
● 等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。
● 制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。
● 请使用>5N纯度氩气等离子体溅射
● 溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射
● 由于能量低,该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al,Mg,Zn,Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机。点击下面图片查看细节
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超声波清洗机 等离子清洗机 大功率磁控溅射仪 蒸镀仪

警告

● 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。
● 气瓶上应安装减压阀(不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶头。

认证

1CE认证

保修期 一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内
点击查看售后服务承诺书。
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